항온 시스템

반도체 계측기용 항온·항습 시스템은 계측 장비와 시료가 항상 일정한 온도와 습도에서 동작하도록 제어하는 장치입니다.
미세한 온·습도 변화도 계측 오차를 발생시킬 수 있어, 정밀한 환경 안정화가 핵심 목적입니다.
특히 반도체 테스트, 패키징, 소재 분석 과정에서 데이터 신뢰성과 반복성 확보에 필수적입니다.
즉, 정밀 계측 환경을 유지하여 제품 품질과 연구 정확성을 보장하는 장비입니다.

THC (Temperature & Humidity Control)

반도체 Photo 공정에서의 THC는 포토 레지스트(PR) 도포·노광·현상 과정에서 온도와 습도를 정밀하게 제어하는 시스템 입니다.
포토 레지스트는 온·습도 변화에 민감하여 두께 균일성, 패턴 해상도, 접착력 등에 큰 영향을 받습니다.
또한 THC는 클린룸 내 노광 장비 주변 환경을 일정하게 유지하여 공정 변동을 최소화합니다.따라서 라인 패턴 정밀도, 수율, 공정 안정성을 확보하는 데 필수적입니다.

소형 General 칠러 (NXC-1005K-A)
소형 칠러는 작은 Footprint와 저렴한 비용으로 항상 일정한 온도와 압력의 냉각수를 생산하여 각종 설비의 발생 열을 제거하고 24시간 안정적인 환경 유지 가능하게 합니다.